薄膜沉积物理方法超强总结

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发布时间:2022-09-19 03:45:34

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资源描述:

蒸发、溅射、离子镀 三类基本PVD方法! 薄膜沉积的物理方法 第1页/共48页 真空蒸发沉积 两个关键: 1,真空度:P ≤ 10-3 Pa (保证粒子具分子流特征,以直线运动) 真空室压力过高,会出现以下情况。a)粒子频繁碰撞,难以匀的薄膜; b)污染薄膜(轰击基片并吸附); c)蒸发形成均源被氧化。 2,基片距离 (相对于蒸发源):10~50 cm 能使用情况:蒸发时不发生化学变化。 沉积物中杂质的含量与残余气体的压强成正比,与 沉积的速度

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发布者:lilijie

上传时间:2022-09-19 03:46:55

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